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Menu HOME COLOMODEについて デバイス試作 利用方法 アクセス お問い合わせ  --> COLOMODEとは--> COLOMODEについて About COLOMODE 未踏デバイス試作共用ライン（Communal Fabrication Line for Outstanding Modern Devices; COLOMODE; コロモデ）は、シリコン量子ビット素子を含む多様な半導体電子デバイスを研究開発するための共用試作ラインです。4インチウエハでの試作が可能な設備群で構成されており、アジャイル＆フレキシブルな試作研究開発を短いプロセス所要時間で実施できます。 　 装置導入タイムラプスムービー 産総研スーパークリーンルーム（300mmウエハ対応ライン）で行うような量産品質グレードでの試作研究開発を実施する前に、個々の研究者が生み出すアイディアを短期間に精度良く試作検証できる場となることを志しています。 2022年4月より、所内共用施設として供用を開始、産総研との共同研究の下で外部機関の皆様にもご利用頂けます。 設立経緯 令和2年度補正予算「重点産業技術に関わるオープンイノベーション拠点整備（次世代コンピューティング、マテリアル）」により、半導体ベースの次世代コンピューティングデバイスの試作機能を有する研究開発拠点整備の一環として、COLOMODEが整備されました。 名前の由来 茨城県の旧国名は常陸国です。和歌における常陸国の枕詞である「衣袖（ころもで）」からその名をとりました。「衣袖」という枕詞は、茨城県地域が常陸国と呼ばれるようになった伝承に由来しており、伝承の舞台となったのはここ筑波山地域であったことが、常陸国風土記に述べられています。古くは万葉集に詠まれている和歌にも用いられている言葉です。 常陸国風土記「筑波岳に黒雲かかり、衣袖漬（ころもでひたち）の国というはこれなり」　Wikipedia「常陸国風土記」より 万葉集　高橋虫麻呂・長歌「衣手　常陸の国の　二（ふた）並ぶ　筑波の山を　見まく欲り　君来ませりと・・・・」 運営体制 管理担当ユニット： デバイス技術研究部門（エレクトロニクス・製造領域） 管理責任者：昌原明植 研究部門長 リーダー： 森貴洋（デバイス技術研究部門 新原理デバイス研究グループ 上級主任研究員） デバイス試作 Device Fabrication 　　 試作可能なデバイス 現時点ではシリコンデバイスのみを試作可能です。将来的には他材料へも拡張可能な装置群を揃えておりますので、ご要望に応じて拡張を検討して参ります。ご要望がありましたら、COLOMODEヘッドクォーターまでご相談ください。 試作単位 ロット単位での試作をお受けいたします。１ロットあたりのウエハ枚数は１～２５枚です。単体装置の時間貸しは行っておりません。単一装置のご利用の場合でも、ロットとして受付いたします。 対応ウエハ ４インチシリコンウエハ・SOIウエハ ※ 他材料ウエハの受け入れは随時検討して参ります。ご要望をお寄せください。 ※ 多くの装置は２インチおよび20mm角クーポンにも対応しておりますが、プロセスが安定するまでは４インチに限定させていただきます。今後検討して参りますので、しばらくお待ちください。 受け入れ可能ウエハスペック 標準ウエハ形状：JEITA規格　　※ SEMI規格も利用可能ですが、装置はJEITA規格でティーチングしております。 金属汚染：5×1010/cm2以下　　※ 箱だしスペックにて パーティクル：0.2μm 30個以下　　※ 箱だしスペックにて 他のスペックについては、特殊だと思われる場合（べべリングされていないなど）はご相談ください。 金属汚染・パーティクルについては、COLOMODEでの洗浄も含めてご相談承ります。 汚染管理について 現時点では４グレードに分類しての汚染管理を検討しております。詳細が確定しましたらお知らせいたします。 ※ 汚染管理とは：シリコンは反応性の大変高い材料であるため、金属汚染で著しく品質が劣化するという弱点があります。そのため、汚染を管理した工程でデバイスを製造する必要があります。反応性の高さはドーピングが容易であることなど、産業の米たる半導体材料としての優位性ももたらすものですが、このような裏返しの弱点があります。 他のクリーンルームとのクロスランについて 他のクリーンルームとのクロスランについては、都度ご相談ください。汚染検査等の可能性チェックを行い、その上で他CRの装置ごとに許可を付与いたします。 装置リスト 装置番号 装置名 装置型番 COL001 ゲート金属スパッタ キャノンアネルバ製 EC7001　※COL002と同一装置 COL002 配線金属スパッタ キャノンアネルバ製 EC7001　※COL001と同一装置 COL003 プラズマポリシリコンCVD サムコ製 PD-2201LC COL004 プラズマ絶縁膜CVD サムコ製 PD-2201LC COL005 半導体絶縁膜RIE サムコ製 RIE-400iPCS COL006 金属RIE サムコ製 RIE-230LC COL007 アッシング キャノンマーケティングジャパン製 MAS-8220AT　※COL008と同一装置 COL008 等方性ドライエッチング キャノンマーケティングジャパン製 MAS-8220AT　※COL007と同一装置 COL009 原子層堆積装置(ALD) Picosun製 MorpherT COL010 自動ウェット洗浄装置 MTK製 CL43D105 COL011 横型炉上段（酸化） 光洋サーモシステム製 280A-M300　※COL0012/13と同一装置 COL012 横型炉中段（拡散） 光洋サーモシステム製 280A-M300　※COL0011/13と同一装置 COL013 横型炉下段（水素） 光洋サーモシステム製 280A-M300　※COL0011/12と同一装置 COL014 Poly-Si熱CVD 光洋サーモシステム製 VF-3000LP COL015 SiN熱CVD 光洋サーモシステム製 VF-3000LP COL016 急速熱処理装置(RTA) 光洋サーモシステム製 RLA-3104-V COL017 電子線描画装置 エリオニクス製 ELS-BODEN-AT4802 COL018 コーターデベロッパー リソテックジャパン製 LITHOTRAC Dual-1000 COL019 マスクレス露光装置 ナノシステムソリューションズ製 DL-1000HPA1R2 COL020 エピタキシャル成長装置 エア・ウォーター・プラントエンジニアリング製 VCE-S2204ST COL021 フラッシュランプアニール装置 Dresden Thin Film Technology製 FLA-100A COL分析 走査型電子顕微鏡 日立ハイテク製 Regulus8230（EDXあり） COL分析 全反射蛍光X線分析装置 リガク製 TXRF3760/SP1 COL分析 分光エリプソメーター ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 alpha-SE-AMT 　 利用方法 How to Use 2022年度は、産総研との共同研究契約の下でのご利用となります。 アクセス Access 産総研 - 交通アクセス：つくばセンター：つくば中央 (aist.go.jp) 〒305-8568　茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2事業所 2-13棟 デバイス技術研究部門 未踏デバイス試作共用ライン(COLOMODE) お問い合わせ Contact 国立研究開発法人産業技術総合研究所 未踏デバイス試作共用ライン(COLOMODE)事務局 お問い合わせフォーム Copyright © COLOMODE 2022 プライバシーポリシー ご利用条件